臺積電傳來新消息的同時，也給ASML帶來瞭“曙光”！
作為制造芯片的核心設備，EUV光刻機在老美的限制下，愈發凸顯其在半導體領域的地位，全球隻有ASML能夠制造生產，在極其有限的產能之下，誰能夠擁有優先獲取權，就能夠占據很大的先機。
而臺積電能夠取得如今的成就，少不瞭ASML的支持，在最艱難的時刻臺積電幫助瞭它，給予瞭資金和技術上的支持，後續ASML也光刻機上進行瞭回報，臺積電的優先獲取權也就是這麼來的。
但如今這樣的局面卻發生瞭轉變，在ASML大面積轉移工廠到美本土之後，就連用於中低端的DUV光刻機自由出貨，都受到瞭很大的限制，先進的EUV光刻機更是隻能提供給“特定客戶”。
ASML陷入困境
中國作為全球最大的芯片消耗市場，臺積電、三星、SK海力士等等芯片廠商，很早就在國內設立瞭分廠，更為先進的產能也在建設當中瞭，但老美在修改瞭規則之後，這一切的計劃都被打破瞭。
根據最新的進出口規定，除瞭限制中企進口EUV光刻機之外，外企也不得以任何理由，將先進的EUV光刻機帶入中國分廠，如今正處於國產光刻機的全力攻堅階段，其目的性也過於明顯。
老美不斷升級的相關限制，也直接影響到瞭ASML對中國市場的佈局，為瞭盡可能挽留住龐大市場，在不違反規則的情況下，ASML展開瞭全力的佈局，除瞭建設研發中心之外，還不斷擴招瞭中國員工。
這一系列的舉動，也隻能夠起到“討好”的作用，並不能為國內市場帶來實質性的影響，ASML自然也能夠意識到這一點，一直都在努力爭取許可，甚至還效仿高通，給老美發出瞭多次警告，但最終的成效甚微。
臺積電傳來瞭新消息
根據臺積電最新的消息，目前ASML已經對EUV光刻機完成瞭升級，NA值達到瞭0.55，但臺積電並沒有大量去訂購該款機型。
同時臺積電暗示將會在2025年前後，擁有ASML最新一代的High-NA EUV光刻機，這才是頂級技術結晶的產物，將能夠滿足2nm工藝的一切生產條件，這是相對符合臺積電的規劃的。
而此前傳言的英特爾獲得瞭ASML的NA EUV光刻機供應，且臺積電並沒有去預定，被很多人解讀為臺積電失去瞭優先供應權，如今也能夠解釋清楚瞭，英特爾獲得的升級版光刻機，並非是最先進的High-NA EUV光刻機。
當然這其中是否存在什麼“貓膩”，我們也隻能等待官方的正式回復瞭，但也正因為臺積電的透露，給ASML帶來瞭“曙光”！
ASML的授權問題或將得到解決
根據市場的針對性措施，在瓦爾森協定中隻規定瞭，不能對部分地區出口最先進的光刻機產品。
在最新的High-NA EUV光刻機正式上市之後，意味著現有的EUV光刻機，就不再是最先進的設備瞭，理論上是能夠自由出貨瞭。
雖然國產光刻機研發項目，已經在全速推進瞭，但國內對於設備的需求量尤其大，因此在今後很長一段時間內，還是需要依靠ASML的產能的，關於這一點我們是要承認的。
就毫比此前DUV光刻機供應一放開，國內廠商就著急訂購瞭11億美元的訂單，而外媒之前也有隱晦表態，暗示EUV光刻機很可能在2025年之前實現自由出貨。
而AMSL估計也意識到瞭這一點，近些年不斷的擴充EUV光刻機的產能，預計這兩年出貨115臺，在產能上逐步實現提升，同時還表態要在2025年之前，實現EUV光刻機全球安裝率達到60%以上。
而這一切都在預示著，ASML大概率會在2025年解決EUV光刻機供應問題，最新的High-NA EUV光刻機最快於2024年交付廠商測試，不出意外的話2025年是能夠實現全面量產的。
一旦ASML解決瞭先進技術的研發，就意味著有“籌碼”和老美談條件瞭，從目前的狀態來看，ASML要想保住中國市場，就必須要盡快實現EUV光刻機的出口，
畢竟目前的國產光刻機，已經完成瞭對於第八代浸潤系統的升級，核心技術都已經實現瞭突破，協調好產能方面的問題，就能夠完成DUV光刻機的自主化量產。
顯然ASML早就開始著急瞭，才會著急推出先進的技術，而矽基時代的臨界點已經到來，一旦量子芯片、碳基芯片等等技術實現瞭突破，到時候可就沒有ASML什麼事瞭。
因此對於目前的市場狀態而言，還有人比我們更著急，我們隻要堅持光刻機的自主國產化，就一定會有勝利的那一天，對此你們是怎麼看的呢？
