不僅是日本,中企新技術也成功擺脫光刻機,ASML要被“打敗”瞭?

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不僅是日本,中企新技術也成功擺脫光刻機,ASML要被“打敗”瞭?

近年來國內科技迎來飛速發展,但看似繁榮昌盛的背後,也隱藏瞭諸多的隱患,困擾我們許久的“缺芯少魂”問題,至今都未能很好的解決,和老美之間的科技競爭,已經被擺上瞭臺面。

中國工業起步較晚,也導致瞭在半導體領域基礎不穩固,導致最先進的制程工藝卡在瞭14nm上,而且還要高度依賴與海外的技術,而華為之前就是太過於相信“科技無國界”,導致吃瞭大虧。

華為有能力設計出尖端的5nm芯片,但憑借著國內工藝根本制造不出來,未能展開全產業鏈的佈局,也導致先進的技術無用武之地,好在華為已經習慣瞭“技術創新”,並沒有因此而陷入困境當中。

在老美的相關限制下,反而加速瞭華為的成長,5G技術更加的精進,坐穩瞭領頭羊的位置,在技術上至少領先瞭歐美2-3年,除瞭在5G領域的成就之外,我國在航空航天等等領域上,也都實現瞭趕超。

說白瞭現階段的科技競爭,就是搭載在芯片工藝基礎上的,誰能夠獲取更為先進的芯片,就能夠在未來掌控全局,目前國內的企業也在芯片領域,展開瞭全面的沖刺,好消息也不斷的傳瞭出來。

ASML的處境

提到先進的芯片制造,不得不提的就是EUV光刻機瞭,ASML作為全球唯一的廠商,在設備進出口上,已經遭到瞭老美的嚴格管控,無法獲取先進的光刻機,也讓國內芯片產業停滯不前。

而如今老美意在重塑本土半導體產業,因此短期之內放開EUV光刻機供應,基本上是不存在任何的可能性的,原因就在於ASML也隻是組裝廠,光刻機是集結瞭來自全球20多個國傢的尖端產物。

ASML之前也承認瞭,產品超過85%的零部件,是來源於全球供應鏈共同研發的,而其中最核心的技術,均來自於老美提供,美也借此反客為主,完全掌控瞭光刻機的進出口。

中國的新技術誕生

據悉國內的芯盟科技正式公佈瞭一項新技術,是一種基於Hitoc技術的3D 4f DRAM架構技術,可以用於生產DRAM芯片,整個過程中不需要用到光刻機,也不用進行復雜的多重圖形曝光SAQP步驟。

而此前日企鎧俠和佳能研發出的NIL技術,已經被驗證可以在不使用EUV光刻機的情況下,能夠生產出5nm芯片,目前已經實現瞭對於15nm芯片的量產。

雖然在技術上可能不處於同一個層次,但中企的技術和日企,已經很好的走到瞭同一個方向,在這項技術正式被應用之後,就能夠更好的實現技術“去美化”瞭,同時也能夠降低對ASML的依賴。

ASML或將被打敗

中芯國際很早之前就斥資10億,向ASML訂購瞭一臺EUV光刻機,但兩三年的時間過去瞭,依然沒有任何出貨的消息,2024年即將迎來新一代的EUV光刻機瞭,但國內進口的希望依然渺茫。

根據ASML傳來的消息顯示,最新一代的光刻機售價將超過4億美元,屆時能夠承擔起的企業就少之又少瞭,壟斷所產生的高定價,也成為瞭各個國傢啟動光刻機自然的重要因素之一。

日企作為光刻機的鼻祖,目前已經官宣重新展開對光刻機的研發,而俄市場以及中企都相繼展開瞭技術研發,ASML顯然已經意識到瞭問題的嚴重性,不但在言語上“敲打”老美,但並沒有起到絲毫作用。

中國作為芯片最大的消耗市場,2022年第一季度的進口額就達到瞭1345億美元,外加上在國內自產自銷的芯片,每年所消耗的芯片數額巨大,在國產計劃提速之後,對光刻機的需求會越來越大。

根據ASML公佈的財報顯示,在今年的第一季度,國內市場貢獻瞭超過50%的份額,在營收上達到瞭13.5億歐元,總計向全球市場出口瞭62臺光刻機,其中有20臺是運往中國市場。

隻可惜在這麼多的光刻機裡,沒有一臺是先進的EUV光刻機,目前國產的DUV光刻機即將完成量產,如果ASML不能獲得EUV光刻機的出貨授權,後續在市場份額上將會進一步降低。

目前全球的工業重心,已經逐步轉向瞭中國市場,也一直都有“世界工廠”的美譽,因此對於芯片的消耗將會進一步加大,美企在相關限制之下已經損失慘重瞭,一旦產業鏈優勢也丟瞭,美企在全球市場的地位也將不復存在。

而ASML也是如此,以目前的狀態而言,想要擺脫含美技術根本不可能,中企肯定會不斷加速光刻機技術的推進,屆時ASML的遭遇也將和美企一樣,對此你們是怎麼看的呢?

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  • 本文由 发表于 2022年7月3日
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