這一次,上海微電子成功擊敗瞭ASML,拿下瞭中企的全部訂單

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國產設備迎來逆襲,中企新訂購的4臺新設備,均來自於上海微電子!

光刻機是制造芯片的核心設備,能夠制造的廠商現階段有不少,但能夠滿足市場芯片制造需求的,卻隻有ASML一傢企業,特別是用於14nm以下工藝的EUV光刻機,ASML則完全壟斷瞭全球市場。

在相關限制的困擾下,國內加速瞭對於光刻機的研發,除瞭中科院突破瞭不少技術之外,還有一些優秀的中企,已經成功掌握瞭相應的組裝工藝,而上海微電子就是一個突出的代表。

上海微電子已經能夠完成90nm工藝的光刻機組裝,在國內的成熟芯片市場,占據瞭大部分的市場份額,同樣在先進光刻機的研發上,也實現瞭實質性的突破。

畢竟EUV光刻機的制造,需要用到超10萬個零部件,分別來源於超過20多個國傢的技術供應,這些技術都是他們最頂尖的,想要獲取肯定有一定的交換條件,因此想要實現EUV光刻機的制造並不簡單。

ASML獨享產能

近日上海的積塔半導體正在積極采購半導體設備,後續將會在特色工藝生產線上持續發力,用於模擬電路、功率器件等等芯片上的生產。

在其公佈的中標信息當中,有一項數據格外的顯眼,在光刻機方面的需求,都被ASML給拿走瞭,本身這是相對正常的事情,但經過事件進行分析之後,我們發現國內的上海微電子也具備訂購設備的制造能力。

此次上海積塔訂購的是ArF、KrF、i-line系列光源光刻機,並非是DUV光刻機,而這些設備上海微電子很早之前就完成瞭突破,都在呼籲要支持國產設備的發展,為何這一次卻要反其道而行呢?

經過專業人士進行分析之後,也得出瞭相對應的答案,目前上海微電子的ArF光刻機精度僅為90nm,但是和ASML更先進的工藝,在價格上卻相差不是很大,但在成品率、相關性能的表現上,卻有著很大的差距。

國產設備迎來反轉

目前最新的消息已經傳出瞭,看來我們是誤會瞭,雖然沒有選擇上海微電子的光刻機,積塔半導體卻把工藝檢測設備的需求,全部留給瞭上海微電子,總訂購數量達到瞭4臺。

這也是唯一一傢中標的工藝檢測設備廠商,在有瞭ASML的訂單摻雜之後,也很好的證明瞭,這是依靠上海微電子自身的實力所獲取的訂單,這對國產供應鏈來說是具備有重大意義的。

而這工藝檢測設備,主要是用於最終的封裝測試階段,目的是為瞭更好地控制殘次品,從而提升芯片制造過程中的良品率,雖然此類設備研發起來並不費勁,但卻也是芯片制造過程中缺一不可的設備。

為瞭提升良品率,ASML多年以來做足瞭努力,不僅在光刻設備上擁有著頂尖的技術,同樣在檢測設備上,也擁有著最頂尖的技術,然而這一次積塔半導體,卻頂著這方面的壓力選擇瞭上海微電子的設備。

這對於國產設備的發展來說,或將成為一個全新的轉折點,在公平的市場競爭環境當中取勝,足以見得上海微電子在該領域內的實力,這也會促成讓更多的中企,去選擇國產設備,這是一個“信任”的開始。

上海微電子持續發力

上海微電子的技術實力毋庸置疑,但最終要想證明自己,還是要在先進光刻機上發力,畢竟是一項很多設備廠商都擁有的技術,還不足以建立起足夠的競爭優勢,如果能夠實現對於先進光刻機的突破,地位才算真正的建立起來瞭。

而上海微電子也還算爭氣,在很早之前就傳出瞭28nmDUV光刻機的消息,可以提供給10nm及以上芯片制造,在相應的性能表現上甚至不輸於ASML的DUV光刻機,同樣采用的也是極紫外光源。

但在相關限制到來之後,這樣的計劃似乎也被放緩瞭,至今都沒有傳出要出貨光刻機的消息,很可能就是是在授權美技術上被卡住瞭,但隨著國內的核心技術不斷突破,相信很快就能夠實現光源技術等等的國產化。

因此距離光刻機真正的國產化已經不遠瞭,如果能夠完成對於10nm工藝的芯片制造,基本上能夠滿足國內超過90%以上的需求瞭,屆時在利用瞭類似於“芯片堆疊”等等特殊工藝,相信是能夠實現不亞於5nm芯片的性能表現的。

盡自己所能去支持國產設備,才是最正確的選擇,企業本身就是為瞭利益而存在的,讓他們犧牲自己去成全國產設備,顯然也不太符合市場發展需求,對此你們是怎麼看的呢?

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  • 本文由 发表于 2022年5月23日
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