國產設備迎來逆襲，中企新訂購的4臺新設備，均來自於上海微電子！
光刻機是制造芯片的核心設備，能夠制造的廠商現階段有不少，但能夠滿足市場芯片制造需求的，卻隻有ASML一傢企業，特別是用於14nm以下工藝的EUV光刻機，ASML則完全壟斷瞭全球市場。
在相關限制的困擾下，國內加速瞭對於光刻機的研發，除瞭中科院突破瞭不少技術之外，還有一些優秀的中企，已經成功掌握瞭相應的組裝工藝，而上海微電子就是一個突出的代表。
上海微電子已經能夠完成90nm工藝的光刻機組裝，在國內的成熟芯片市場，占據瞭大部分的市場份額，同樣在先進光刻機的研發上，也實現瞭實質性的突破。
畢竟EUV光刻機的制造，需要用到超10萬個零部件，分別來源於超過20多個國傢的技術供應，這些技術都是他們最頂尖的，想要獲取肯定有一定的交換條件，因此想要實現EUV光刻機的制造並不簡單。
ASML獨享產能
近日上海的積塔半導體正在積極采購半導體設備，後續將會在特色工藝生產線上持續發力，用於模擬電路、功率器件等等芯片上的生產。
在其公佈的中標信息當中，有一項數據格外的顯眼，在光刻機方面的需求，都被ASML給拿走瞭，本身這是相對正常的事情，但經過事件進行分析之後，我們發現國內的上海微電子也具備訂購設備的制造能力。
此次上海積塔訂購的是ArF、KrF、i-line系列光源光刻機，並非是DUV光刻機，而這些設備上海微電子很早之前就完成瞭突破，都在呼籲要支持國產設備的發展，為何這一次卻要反其道而行呢？
經過專業人士進行分析之後，也得出瞭相對應的答案，目前上海微電子的ArF光刻機精度僅為90nm，但是和ASML更先進的工藝，在價格上卻相差不是很大，但在成品率、相關性能的表現上，卻有著很大的差距。
國產設備迎來反轉
目前最新的消息已經傳出瞭，看來我們是誤會瞭，雖然沒有選擇上海微電子的光刻機，積塔半導體卻把工藝檢測設備的需求，全部留給瞭上海微電子，總訂購數量達到瞭4臺。
這也是唯一一傢中標的工藝檢測設備廠商，在有瞭ASML的訂單摻雜之後，也很好的證明瞭，這是依靠上海微電子自身的實力所獲取的訂單，這對國產供應鏈來說是具備有重大意義的。
而這工藝檢測設備，主要是用於最終的封裝測試階段，目的是為瞭更好地控制殘次品，從而提升芯片制造過程中的良品率，雖然此類設備研發起來並不費勁，但卻也是芯片制造過程中缺一不可的設備。
為瞭提升良品率，ASML多年以來做足瞭努力，不僅在光刻設備上擁有著頂尖的技術，同樣在檢測設備上，也擁有著最頂尖的技術，然而這一次積塔半導體，卻頂著這方面的壓力選擇瞭上海微電子的設備。
這對於國產設備的發展來說，或將成為一個全新的轉折點，在公平的市場競爭環境當中取勝，足以見得上海微電子在該領域內的實力，這也會促成讓更多的中企，去選擇國產設備，這是一個“信任”的開始。
上海微電子持續發力
上海微電子的技術實力毋庸置疑，但最終要想證明自己，還是要在先進光刻機上發力，畢竟是一項很多設備廠商都擁有的技術，還不足以建立起足夠的競爭優勢，如果能夠實現對於先進光刻機的突破，地位才算真正的建立起來瞭。
而上海微電子也還算爭氣，在很早之前就傳出瞭28nmDUV光刻機的消息，可以提供給10nm及以上芯片制造，在相應的性能表現上甚至不輸於ASML的DUV光刻機，同樣采用的也是極紫外光源。
但在相關限制到來之後，這樣的計劃似乎也被放緩瞭，至今都沒有傳出要出貨光刻機的消息，很可能就是是在授權美技術上被卡住瞭，但隨著國內的核心技術不斷突破，相信很快就能夠實現光源技術等等的國產化。
因此距離光刻機真正的國產化已經不遠瞭，如果能夠完成對於10nm工藝的芯片制造，基本上能夠滿足國內超過90%以上的需求瞭，屆時在利用瞭類似於“芯片堆疊”等等特殊工藝，相信是能夠實現不亞於5nm芯片的性能表現的。
盡自己所能去支持國產設備，才是最正確的選擇，企業本身就是為瞭利益而存在的，讓他們犧牲自己去成全國產設備，顯然也不太符合市場發展需求，對此你們是怎麼看的呢？
