僅剩6個月的時間,國產光刻機能否兌現當初的承諾?

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僅剩6個月的時間,國產光刻機能否兌現當初的承諾?

在芯片的重要程度重新被審視之後,我們對於造芯的整個過程,也算有瞭一個深入的瞭解,而在那麼多的造芯設備當中,唯有“光刻機”這三個字深入人心,也足以體現瞭其重要性。

在華為遭遇相關限制之後,芯片的供應被完全切斷瞭,也直接導致瞭部分業務欠發展,損失瞭大量的營收,這才讓國內企業明白瞭,自研技術的重要性,也讓越來越多的企業投身於半導體領域的技術研發。

在2020年的時候,國傢針對芯片領域提出瞭一個5年計劃,那就是要在2025年之前,實現對於芯片70%自給率的目標,雖然這個目標很難實現,但有瞭國傢層面的支持,各大科技企業相繼響應瞭號召。

國產設備實現突破

目前國傢已經把集成電路納入瞭一級學科,隨後各大高校相繼成立瞭相關專業,華為也積極參與高校之間的合作,利用產教互聯的方式,定點定向去培養高質量人才,而企業自身也加大瞭研發經費,在全球范圍內吸納高質量人才。

在國傢和企業的通力配合之下,目前在半導體領域也取得瞭非常不錯的成就,在華為的鴻蒙系統、龍芯中科的LoongArch架構成功商用之後,也算是初步解決瞭國內長久以來“缺芯少屏”的困境。

目前最主要的技術攻克難題,也被集中在瞭光刻機上,中科院已經全速進行相關技術的研發,而國內的上海微電子則在DUV光刻機上,取得瞭重大的突破,28nm的國產光刻機也逐步成型瞭。

而同樣在其它的半導體設備上,同樣也取得瞭很大的成就,特別是由中微半導體研發的等離子刻蝕機,足以提供給3nm產能去使用,並且已經成功進入到瞭臺積電的供應鏈當中,已經位於世界一流梯隊。

國產光刻機的困境

在配套設施上已經取得瞭重大突破,但在光刻機上依然處於劣勢狀態,目前ASML的EUV光刻機,已經能夠實現對於3nm芯片的制造,而國內就連實現28nm的DUV光刻機都夠嗆,真正算起來精度僅為90nm左右。

但相比於國際整體水平,上海微電子能夠實現的90nm水平,也已經屬於先進水平瞭,並進除瞭ASML之外,也就日企佳能、尼康能夠生產光刻機瞭,而且工藝也基本上和上海微電子持平。

可以毫不誇張的說,老美在光刻機的制造工藝上,甚至還比不上我們,但奈何ASML雖然是荷蘭的企業,但總部早就被架空,研發中心和工廠都已經遷到瞭美本土,使用瞭大量含美技術,ASML也早就失去瞭自主運營權。

而上海微電子很早就之前就傳出消息,將會在2022年交付一臺28nm的光刻機,一旦完成瞭交付,這也將成為真正意義上的國產DUV光刻機,意味著我國將會在造芯領域更進一步。

國產光刻機能否兌現承諾

然而距離兌現當初的承諾,隻剩6個月的時間瞭,對於上海微電子來說,也面臨著巨大的壓力,28nm光刻機對於國內芯片產業有著重要意義,隻有擁有瞭這臺光刻機,才能夠真正實現國產芯片70%自給率的目標。

28nm的沉浸式DUV光刻機,是有辦法實現7nm及以上芯片制造的,對於14nm的量產技術,中芯國際已經擁有瞭不亞於臺積電的成品率,相關性能的表現上也絲毫不遜色。

外加上如今華為已經擁有瞭“芯片堆疊”工藝,隻要能夠實現14nm芯片的完全自主化,利用兩顆芯片進行疊加,是可以實現不亞於7nm芯片的工藝,屆時麒麟芯片就能夠重新回歸,也能夠給國產帶來更多的希望。

此前ASML的負責人曾叫囂:“就算把圖紙給到我們,國內也生產不出先進的光刻機!”就目前而言的確是這樣,但我們缺乏的並非是技術,而是供應鏈之間的關系。

制造一臺EUV光刻機,所需要的零部件就多達10萬之多,而這些分別是來自於二十多個國傢的頂尖技術,其中又是以美的技術為主導,因此我們想要獲取到所有的供應鏈產品,就目前的狀態而言根本不可能。

但隨著中科院以及國內研究所不斷實現的技術突破,光刻機的核心技術組成部分,基本上已經得到瞭相應的突破,因此對於28nm的DUV光刻機組裝,應該是不會存在太大的難度。

既然此前傳出瞭會在2022年交付28nm光刻機,那自然不會是空穴來風,相信上海微電子肯定會如期完成任務的,現在我們也隻能夠靜待官方的消息,對此你們是怎麼看的呢?

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  • 本文由 发表于 2022年5月25日
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